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聚合物表面的飞行时间二次离子质谱分析:综述
Journal of Applied Polymer Science ( IF 2.7 ) Pub Date : 2022-03-04 , DOI: 10.1002/app.52286
Ananthu Prasad 1, 2 , Nisa V. Salim 1 , Miran Mozetič 3 , Lekshmi Kailas 4 , Sabu Thomas 2, 5, 6
Affiliation  

飞行时间-二次离子质谱 (ToF-SIMS) 是一种基于 SIMS 的表面敏感技术,可提供表面分子的特定化合物识别。最近,ToF-SIMS 对聚合物、药物、半导体的表征和利用的重要性日益增加。ToF-SIMS 的化合物特异性使其有别于其他表面表征技术,如 X 射线光电子能谱 (XPS)、俄歇电子能谱 (AES) 等,使其成为聚合物有效表面分析的首选工具。本综述的目的是阐明 ToF-SIMS 技术有效分析聚合物材料表面化学的能力。



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更新日期:2022-03-04
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