课题组开发了一种基于电射流打印的光刻胶直写技术，采用BP212光刻胶为打印墨水，实现了10微米以下光刻胶结构制造，解决了传统光刻工艺的工艺复杂（需甩胶、前烘、曝光、后烘、显影和清洗等步骤），降低了光刻对环境的污染（传统光刻需去除部分光刻胶且需要使用有毒性的显影剂）。课题组开发的设备原理图如图所示。

          图1 电射流直写设备原理图

参考文献：

1. Qu X., Li J., Yin Z., Zou H., New lithography technique based on electrohydrodynamic printing platform, Organic Electronics, 2019, 71, 279-283.