英文原题：Photochemically deoxygenating micelles for protecting TTA-UC against oxygen quenching

第一作者：万仕刚副教授

通讯作者：叶常青教授、宋延林教授

作者：万仕刚、王董煊、蔡梦琪、史益忠、张雨生、陈硕然、叶常青、宋延林

       三重态湮灭上转换(TTA-UC)纳米材料在生物成像、药物释放、3D打印、传感以及防伪等方面都有潜在应用。TTA-UC过程涉及光敏剂和湮灭剂之间的能量传递，因此必须在无氧条件下进行，从而限制了它的应用。研究者一直致力于发展能在空气条件下运行的TTA-UC体系，已报道的保护三重态湮灭上转换免遭氧气猝灭的方法主要有物理方法和化学方法。物理方法通过把上转换材料封装在纳米材料内部，利用纳米材料的致密层阻止氧气的扩散，但该方法在材料制备过程中必须用惰性气体预除氧。化学方法主要是向体系中加入能与氧气或单线态氧反应的化学物质，原位消耗体系中的氧分子。采用额外加入除氧剂的方式虽然实现了较好的上转换效率，但在一定程度上增加了材料制备的难度。

       在本工作中，我们采用具有光化学除氧能力的表面活性剂F127或P123为原料，制备了具有光化学除氧功能的TTA-UC胶束。该TTA-UC胶束在空气条件下的上转换效率与惰性氛围下的效率相当。进一步，我们还制备了在溶液中更稳定的F127交联胶束，观察到了其在溶液中的上转换发射。该工作为发展能在空气条件下运行的TTA-UC纳米材料提供了一种新的思路。

TTA-UC过程中通过光化学作用清除氧气的机理

Photochemically deoxygenating micelles for protecting TTA-UC against oxygen quenching

Shigang Wan, Dongxuan Wang, Mengqi Cai, Yizhong Shi, Yusheng Zhang, Shuoran Chen, Changqing Ye* and Yanlin Song*

Chem. Commun., 2023, 59, 13895-13898.

Published Online: 2 November 2023

原文链接: https://pubs.rsc.org/en/content/articlelanding/2023/CC/D3CC04327D