专利类型：发明授权

申请（专利）号：CN202210289008.9

授权公布号：CN114377700B

主权项：

1.一种阴阳离子共掺杂的卤氧化物光催化材料在光催化分解水方面的应用,其特征在于：以IO-3～-/I～-作氧化还原电对、阴阳离子共掺杂的卤氧化物光催化材料作产氧端光催化剂、ZrO-2修饰的TaON作产氢端光催化剂,构建Z机制全分解水体系,且H-2和O-2的生成比例为2:1；所述光催化材料为将溴原子和钇原子共掺杂到铋基卤氧化物Bi-2YO-4Cl中得到,其结构式为：Bi-(3-x)Y-xO-4Cl-(1-y)Br-y,式中,1≤x≤2,0<y<1；将Br和Y通过熔盐法掺杂在Bi-2YO-4Cl中制得所述光催化材料,具体步骤为：将氧化铋Bi-2O-3、氧化钇Y-2O-3和溴氧化铋BiOBr按照摩尔比0.1～1:0.5～1:1～2混合并研磨均匀；然后加入盐类反应介质继续研磨,盐类反应介质为氯化钠NaCl和氯化钾KCl的混合物,最后经高温煅烧、洗涤烘干后得到所述光催化材料。

摘要：

本发明属于光催化材料技术领域,尤其涉及一种阴阳离子共掺杂的卤氧化物光催化材料,其特征在于：所述光催化材料为将溴原子和钇原子共掺杂到铋基卤氧化物Bi-2YO-4Cl中得到的光催化材料,其结构式为：Bi-(3-x)Y-xO-4Cl-(1-y)Br-y,式中,1≤x≤2,0≤y≤1。该光催化材料通过将Br和Y通过熔盐法掺杂在Bi-2YO-4Cl中,可应用在光催化分解水方面。本发明的有益效果是：通过阴阳离子共掺杂策略,制备了新型卤氧化物光催化材料,实现了可见光响应下无助催化剂的高产氧活性和担载还原助催化剂的产氢活性,同时首次构筑了可见光响应下基于IO-3～-/I～-氧化还原电对的Z机制全分解水体系,且表现出良好的光化学稳定性。