研究方向：

SiC纳米线的可控合成及其性能和应用

课题简介：

针对碳化硅（SiC）纳米线进行了可控合成，并对其性能和应用进行了系统研究。采用化学气相沉积（CVD）方法成功合成了直径在10-100纳米之间的SiC纳米线，并对其在光电性能和力学性能等方面的特性进行了深入研究。

个人荣誉：

研究生一等奖学金（2022）优秀三好学生（2023）