个人简介

招生专业： 半导体器件与物理 微电子与固体电子学 生物化学 材料 学历 -- 研究生 学位 中国科学院物理研究所理学博士学位 工作经历： 1997年在中国科学院物理研究所获博士学位。 1997年-2004年，先后在日本东北大学的Venture Business Laboratory、德国弗莱堡大学的Institute for Microsystem Technology、瑞士巴塞尔大学和IBM Zurich Research Laboratory工作。 2004年，入选中国科学院"****"，加入中科院半导体研究所。 主要研究成果： 主要从事微纳器件研制和表征，如超小悬臂梁的制备及其在超快和超敏感的原子力显微镜中的应用、MEMS薄膜的可靠性研究。取得的主要学术成就：大规模制备了具有优良机械性能的超薄单晶硅力传感器，澄清了其机械能量损失机制，使AFM的扫描速度和力分辨率分别提高至少10倍和5倍。在国际上首次将吹曲测试（Bulge Test）扩展到了薄膜的断裂性能表征，适用于任何薄膜的残余应力、杨氏模量和断裂应力分析。 组建了国内首台吹曲测试系统，对多种MEMS/NEMS薄膜材料的力学性能和可靠性进行了表征。组建了国内首台宽频谱的射频微纳谐振器件的频谱特性表征系统。成功研制了频率达400 MHz的圆盘结构谐振子。

研究领域

微机电系统器件

近期内主要开展： （1）射频微机电器件研究 （2）MEMS/NEMS封装技术的研究 （3）微纳器件可靠性研究，等

近期论文

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1. Y. F. Liu，J. Xie，M. L. Zhang，J. L. Yang，and F. H. Yang, “An effective approach for restraining galvanic corrosion of polycrystalline silicon by hydrofluoric acid-based solutions”, IEEE J. Microelectromech. Syst. 20 (2) : 460 (2011）. 2. Y. F. Zhu, F. X. Zhang, J. L. Yang, H. Y. Zheng, F. H. Yang， “Stability of mechanical properties for submicrometer single-crystal silicon cantilever under cyclic load”, IEEE J. Microelectromech. Syst. 20 (1): 178 (2011). 3. R. R. Gruter, Z. Khan, R. Paxman, J. Ndieyira, B. Dueck, B. Bircher, J. L.Yang, U. Drechsler, M. despont, R. Mckendry, and B. W. Hoogenboom， “Distangling mechanical and mass effects on nanomechanical resonator”， Appl. Phys. Lett. 96, 023113 (2010). 4. W. Zhou, J. L. Yang, G. S. Sun, X. F. Liu, A. Ji, F. H. Yang, Y. D. Yu, and J. M. Li, “Fracture properties of silicon carbide thin films by bulge test of long rectangular membrane”, IEEE J. Microelectromech. Syst. 17 (2): 453 (2008). 5. J. L. Yang, J. Gaspar, and O. Paul, “Fracture properties of LPCVD silicon nitride and thermal oxide thin films from the load-deflection of long Si3N4 and SiO2 Membranes”, IEEE J. Microelectromech. Syst. 17, 1120 (2008). 6. J. L. Yang, M. Despont, U. Drechsler, B. W. Hoogenboom, H. J. Hug, P. Vettiger, and A. Engel, “Miniaturized single crystal silicon cantilevers for scanning force microscopy”, Appl. Phys. Lett. 86, 134101 (2005). 7. X. Mao, J. L. Yang, A. Ji, and F. H. Yang， Two new methods to improve the lithography precision for SU-8 photoresist on glass substrate, IEEE MEMS 2012, Paris, Jan. 29 – Feb. 2, 2012, accepted. 8. J. Xie, Y. F. Liu, H. Zhao, J. L.Yang, and F. H. Yang, “Reliable low-cost fabrication and characterization methods for micromechanical disk resonators”, Tech. Digest, Transducers’ 2011, Beijing, China, June 6 – 9, pp. 2462, 2011. 9. J. Xie, Y. F. Liu, M. L. Zhang, J. L. Yang, and F. H. Yang, “A simple method to effectively restrain electrochemical corrosion of polycrystalline silicon layers by HF-based solutions”, IEEE MEMS 2011, Mexico, Jan. 23 – 27, pp. 205, 2011.