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个人简介

教育及工作经历 2020年5月~至今,哈尔滨工业大学,准聘副研究员 2017年7月~2020年4月,苏州大学,副教授 2016年8月~2017年8月,美国普林斯顿大学 (PPPL),访问学者,合作导师:吉瀚涛,Yevgeny Raitses 2014年8月~2017年6月,苏州大学,讲师 2012年9月~2014年3月,美国普林斯顿大学 (PPPL) ,等离子体物理,联合培养博士,导师:吉瀚涛,Yevgeny Raitses 2010年9月~2014年6月,苏州大学,凝聚态物理,博士,导师:吴雪梅 2010年3月~2010年9月,杭州华三通信技术有限公司,研发部,器件工程师(失效分析) 2008年3月~2010年3月,和舰科技(苏州)有限公司,薄膜部门,制程高级工程师 2005年9月~2008年7月,苏州大学,凝聚态物理,硕士,导师:吴雪梅 2001年9月~2005年7月,南京师范大学,物理学,学士

研究领域

1)等离子体放电技术:波加热气体放电(天线设计,螺旋波等离子体,多频大型固态源ECR等离子体源,微型ECR等离子体源),大气压等离子体放电(高频脉冲DBD,微波JET),低气压射频等离子体放电(射频匹配、射频功率测量、ICP、CCP),微型阳极层离子源阵列等 2)等离子体诊断:静电探针(单探针),磁探针阵列,发射探针、磁绝缘折流探针、减速场能量分析仪、发射光谱,质谱能谱,激光诱导荧光光谱 3)空间材料二次电子发射测量技术(微区高、低能电子二次电子发射系数,二次电子能量分布),低温等离子体与材料相互作用(高分子及金属异形件表面改性),离子束材料表面改性,功能薄膜材料制备及其表征,等离子体废气,废水及固废处理

近期论文

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Ma Xiao, Xu Dongsheng, Ji Peiyu, Jin Chenggang, et al., Vacuum, 2019, 6, 164: 355-360. Haiyun Tan, Jin Chenggang, et al., Phys. Plasmas 26, 052107 (2019). Haiyun Tan, Jin Chenggang, et al., IEEE Transactions on Plasma Science, 2019, 3, 47(8): 3986 - 3990. Meili Cui, Jin Chenggang, et al., Optik, 2018, 2, 154: 280-285. Chen Jiali, Ji Peiyu, Jin Chenggang, et al., Plasma Science and Technology, 2018, 12, 13, 21(025502). Tan Haiyun, Jin Chenggang, et al., IEEE Transactions on Plasma Science, 2018, 3, 46(3): 539-544. Ji Peiyu, Yu Jun, Huang Tianyuan, Jin Chenggang, et al., Plasma Science and Technology, 2018, 2, 20(2): 025505-025505. Huang Tianyuan, Jin Chenggang*, et al., IEEE Transactions on Plasma Science 2018, 46(4): 895-899. Zhang Guilu, Huang Tianyuan, Jin Chenggang*, et al., Plasma Science and Technology 2018. Jin, Chenggang, et al., Journal of Applied Physics, 2017, 122(17): 173301. Huang Tianyuan, Jin Chenggang*, et al., PLASMA CHEMISTRY AND PLASMA PROCESSING. 2017,37(4):1237-1247. Yang Jiaqi, Hu Yibo, Jin Chenggang, et al., Thin Solid Films, 2017, 9, 1, 637: 9-13. Huang TianYuan, Jin Chenggang*, et al., Science China Physics, Mechanics & Astronomy, 2016,59(4). Jin Chenggang*, et al., Plasma Processes and Polymers, 2015,12(10):1061-1068. Jin Chenggang, et al., Journal of Materials Chemistry C, 2014, 2(16):2992-2997. Jin Chenggang, et al., Journal of Physics D: Applied Physics. 2013,46(48). Jin Chenggang, et al., Materials Chemistry and Physics, 2013,139(2-3):506-510. Jin Chenggang, et al., Applied Physics A-Materials Science & Processing. 2012,109(1):173-179. Jin Chenggang, et al., Thin Solid Films 524 (1) 39-43 (2012). Jin Chenggang, et al., Applied physics A 106:961–966 (2012) Jin Chenggang, et al., Vacuum 86 1078-1082 (2012). Jin Chenggang, et al., IEEE Transactions on Plasma Science, 99 11 (2011). Jin Chenggang, et al., Physica E 43 1863–1866 (2011). Jin Chenggang, et al., Thin Solid Films 518 (8) 2152-2156 (2010). Jin Chenggang, et al., Applied Surface Science 255 (2009) 4711–4715. Jin Chenggang, et al., J. Phys. D: Appl. Phys. 41 (2008) 035005. Jin Chenggang, et al., Research Letters in Physical Chemistry, 760650 (2008). Jin Chenggang, et al., Frontiers of Materials Science in China, 1 (2):158-161 (2007). 金成刚,吴雪梅,诸葛兰剑. 《SiC稀磁半导体材料的研究进展》,微纳电子技术2007年第十二期(1053)。 BAI Yang (柏洋),JIN Chenggang (金成刚),et al., Plasma Sci. Technol., 15(10): 1002-1005 (2013). Y. Yang, Jin Chenggang, et al., Materials Chemistry and Physics 142, 479-483 (2013). Y. Yang, C.G. Jin, Jin Chenggang, et al., J. Phys. D: Appl. Phys. (2013). T. Yu, Jin Chenggang, et al., Vacuum 16 1321–1327 (2013). T. Yu, Jin Chenggang, et al., Vacuum 92 58–64 (2013). T. Yu, Jin Chenggang, et al., J. Appl. Phys. 113, 044105 (2013). T. Yu, Jin Chenggang, et al., Surf. Interface Anal. 44 395 (2012). T. Yu, Jin Chenggang, et al., Applied Surface Science 258 2953–2958 (2012) T.Y. Huang, Jin Chenggang, et al., Advanced Materials Research, (in press). H Y Zhang, X M Yang, T Yu, Jin Chenggang, et al., J. Phys. D: Appl. Phys. 46 435102 (2013).

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