吴衍青 - 中国科学院大学

个人简介

招生方向 X射线干涉光刻及应用同步辐射光学 X射线成像探测器教育背景 1994-09--2000-04 中科院上海光机所博士 1988-09--1992-07 复旦大学学士工作简历 2004-07~现在, 中科院上海应物所, 组长 2001-11~2004-02,韩国浦项工大, 博士后 2001-01~2001-11,复旦大学, 博士后 1992-07~2000-12,中科院上海光机所, 助理研究员/博士专利成果（ 1 ）一种闪烁体探测系统, 发明, 2016, 第 1 作者, 专利号: 授权公布号：CN105784734A 科研项目（ 1 ）中科院大科学装置维修改造项目-软X射线干涉光刻分支线站的建设, 参与, 部委级, 2009-05--2011-10 （ 2 ）基于新型宽带相干光学技术的软X射线干涉光刻, 主持, 国家级, 2013-01--2016-12 （ 3 ）中国科学院大科学装置开放研究项目, 参与, 研究所（学校）, 2011-01--2015-06 （ 4 ）小像素探测器子课题：高分辨成像探测器, 主持, 国家级, 2016-07--2020-12 （ 5 ）大科学中心重点研发项目 - 高效率新原理面探测器研究, 主持, 部委级, 2015-08--2018-08 （ 6 ）成像闪烁体表面修饰的物理机制和制备方法研究, 主持, 国家级, 2018-01--2021-12 （ 7 ） X 射线衍射光谱与成像纳米器件集成制造, 参与, 国家级, 2017-06--2022-06 参与会议（1）High efficient scintillant imagers covered with 2D photonic crystals 2017-08-17 （2）VUV Extra-focus Principle and its Application to High-performance Grating Monochromators Chaofan Xue, Yanqing Wu,* Ying Zou, Lian Xue, Yong Wang, Renzhong Tai 2015-07-06 （3）Current Status of SSRF Dreamline Yanqing Wu, yong Wang, Tairenzhong, et al 2012-08-10

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（1） The recent development of soft x-ray interference lithography in SSRF, Int. J. Extrem. Manuf., 2020-02, 通讯作者（2） A variable fixed-focus constant optimization method for a variable-included-angle varied-line-spacing plane-grating monochromator, J. Synchrotron Rad., 2019, 通讯作者（3） Parallel direct writing achromatic talbot lithography: a method for large-area arbitrary sub-micron periodic nano-arrays fabrication, Nanotechnology, 2019, 通讯作者（4） The wave optical whole process design of the soft X-ray interference lithography beamline at SSRF, J. Synchrotron Rad., 2018, 通讯作者（5） Fabrication of high aspect ratio nanoscale periodic structures by the soft x-ray interference lithography, Microelectronic Engineering, 2017, 通讯作者（6） Influence of symmetry and duty cycles on the pattern generation in achromatic Talbot lithography, J. Vac. Sci. Technol. B, 2017, 通讯作者（7） Fabrication of large-area high-aspect-ratio periodic nanostructures on various substrates by soft X-ray interference lithography, Applied Surface Science, 2017, 通讯作者（8） Development of broadband X-ray interference lithography large area exposure system, Rev. Sci. Instrum., 2016, 通讯作者（9） Fabrication of high aspect ratio nanoscale periodic structures by the soft X-ray interference lithography, Microelectronic Engineering, 2016, 通讯作者（10） Applications of VUV extra-focus mechanism: high-performance dual-mode monochromator from VUV to soft X-ray, J. Synchrotron Rad., 2015, 通讯作者（11） A new extra-focus monochromator designed for high-performance VUV beamlines, Journal of Synchrotron Radiation, 2015, 通讯作者（12） Developments at SSRF in soft X-ray interference lithography, NUCLEAR SCIENCE AND TECHNIQUES, 2015, 通讯作者（13） Design of an ultrahigh-energy-resolution and wide-energy-range soft X-ray beamline, journal of synchrotron radiation, 2014, 第 3 作者（14）上海光源软 X 射线干涉光刻线站波荡器光源及束线相干性研究, Investigation on the coherence of undulator source and soft X-ray interference lithography beamline in SSRF, 核技术, 2013, 通讯作者（15） Effects of missing low-frequency information on ptychographic and plane-wave coherent diffraction imaging, Applied Optics, 2013, 第 4 作者（16）同步辐射光束线中部分相干光的传播研究, 光学学报, 2013, 通讯作者（17） The design, fabrication and performance of a large area 10000 line/mm metal transmission diffraction gratings for soft X-ray , Acta Physica Sinica, 2008, 第 2 作者（18） 13.4nm软X射线干涉光刻透射光栅的优化设计, Optimized Design of Transmission Grating Used for 13.4 nm Soft X-Ray Interference Lithography, 光学学报, 2008, 第 2 作者（19）基于高级硅刻蚀和硅氧化工艺的软X射线干涉光刻分束光栅的优化设计, An optimized design of the XIL beam splitter grating combining advanced silicon etching with silicon oxidation technology , 核技术, 2008, 第 2 作者（20）离子振荡对低压脉冲负电性放电条件的影响, 物理学报, 2006, 第 1 作者（21） The Control of Laser-Plasma Parametric Instabilities with Ultrabroad Bandwidth Frequency Modulated Laser Pulse, Plasma Physics and Controlled Fusion, 2001, 第 1 作者（22） Radiative Cooling Instability in Large Scale Line-shaped Laser Plasma, Chinese Physics Letter, 1997, 第 1 作者