个人简介
招生方向
微纳光刻
微细加工装备整机及关键技术
测试仪器
教育背景
学历
中科院光电所 19990901--20060701 研究生毕业
学位
中科院光电所 19990901--20060701 工学博士学位
工作简历
2002-01~现在, 中国科学院光电技术研究所, 研究员
1999-01~2001-12,中国科学院光电技术研究所, 副研究员
1993-01~1998-12,中国科学院光电技术研究所, 助理研究员
1988-08~1992-12,中国科学院光电技术研究所, 研究实习员
教授课程
微细加工光刻技术及装备
微细加工光刻技术
光学投影曝光微纳加工技术
奖励信息
（1） 四川省第七届劳模, , 省级, 2015
（2） 国务院政府津贴, , 国家级, 2015
（3） 朱李月华教师奖, 院级, 2015
（4） 全国半导体设备和材料标准化技术委员会，标准化工作优秀个人, , 其他, 2014
（5） 中国科学院成都分院优秀导师, , 研究所（学校）, 2012
（6） 中国科学院优秀共产党员, , 研究所（学校）, 2011
（7） 四川省有突出贡献优秀专家, , 省级, 2010
专利成果
（ 1 ） 一种基于光栅泰伯效应的检焦方法, 发明, 2014, 第 2 作者, 专利号: 201410500277.0
（ 2 ） 一种基于哈特曼波前检测原理的检焦方法, 发明, 2014, 第 2 作者, 专利号: 201410479415.1
（ 3 ） 一种基于外差干涉和二次衍射效应的光栅位移测量系统, 发明, 2015, 第 2 作者, 专利号: 201510100566.6
（ 4 ） 一种透镜热变形对光学系统成像结果影响的分析方法, 发明, 2015, 第 3 作者, 专利号: 201510002637.9
（ 5 ） 一种有限元仿真分析中的轴承简化方法, 发明, 2014, 第 3 作者, 专利号: 201410539336.5
（ 6 ） 一种单倍率对称式投影曝光物镜, 发明, 2014, 第 2 作者, 专利号: 201410479916.X
（ 7 ） 一种掩模与基底六自由度对准装置, 发明, 2014, 第 2 作者, 专利号: 201410607056.3
（ 8 ） 一种应用于投影光刻机的大视场投影曝光物镜, 发明, 2014, 第 2 作者, 专利号: 201410477962.6
（ 9 ） 一种叠栅条纹相位解析的纳米检焦方法, 发明, 2014, 第 2 作者, 专利号: 201410308999.6
（ 10 ） 用于生物芯片扫描仪的二维扫描方法, 发明, 2015, 第 2 作者, 专利号: 201410217312.8
（ 11 ） 一种复合光栅纳米光刻自动对准系统, 发明, 2015, 第 3 作者, 专利号: 201510100540.1
（ 12 ） 一种光刻机的接近式间隙曝光工件台, 发明, 2015, 第 2 作者, 专利号: 201510068150.0
（ 13 ） 一种用于接近式纳米光刻二维光栅自动对准系统, 发明, 2015, 第 3 作者, 专利号: 201510001996.2
（ 14 ） 一种基于二维双频光栅剪切干涉的纳米级检焦方法, 发明, 2015, 第 2 作者, 专利号: 201410479923.X
（ 15 ） 一种径向零附加力转台, 发明, 2014, 第 2 作者, 专利号: 201410273266.3
（ 16 ） 一种气浮导轨 , 发明, 2014, 第 2 作者, 专利号: 201410153183.0
（ 17 ） 一种基于外差干涉和二次衍射效应的光栅位移测量系统, 发明, 2015, 第 2 作者, 专利号: 201510100566.6
（ 18 ） 一种透镜热变形对光学系统成像结果影响的分析方法, 发明, 2015, 第 3 作者, 专利号: 201510002637.9
（ 19 ） 一种光刻机的接近式间隙曝光工件台, 发明, 2015, 第 2 作者, 专利号: 201510068150.0
（ 20 ） 一种用于光刻精密工件台的针孔检测镜头, 发明, 2015, 第 3 作者, 专利号: 201510230493.2
（ 21 ） 一种DMD无掩模光刻机的投影物镜镜头, 发明, 2015, 第 5 作者, 专利号: 201510001926.7
（ 22 ） 基于数字微镜阵列制作不同深度的多台阶光栅的无掩模光刻机, 发明, 2015, 第 4 作者, 专利号: 201510601326.4
（ 23 ） 一种大视场大数值孔径紫外光投影光刻物镜镜头, 发明, 2015, 第 5 作者, 专利号: 201510005369.6
（ 24 ） 一种复合光栅纳米光刻自动对准系统, 发明, 2015, 第 3 作者, 专利号: 201510100540.1
（ 25 ） 一种用于光刻系统的单倍双远心光刻投影物镜, 发明, 2016, 第 4 作者, 专利号: 201510862320.2
（ 26 ） 一种用于接近式纳米光刻二维光栅自动对准系统, 发明, 2015, 第 3 作者, 专利号: 201510001996.2
（ 27 ） 一种光刻机的接近式间隙曝光工件台, 实用新型, 2015, 第 2 作者, 专利号: 201520092861.7
发表著作
（1） 光学投影曝光微纳加工技术, Optical projection lithography micromachining technology, 北京工业大学出版社, 2015-04, 第 2 作者
科研项目
（ 1 ） ArF曝光系统研制, 参与, 国家级, 2009-04--2015-12
（ 2 ） 极紫外光刻原理实验装置机械与真空系统研制, 主持, 国家级, 2009-01--2015-12
（ 3 ） 超分辨光刻装备研制, 主持, 国家级, 2012-01--2015-12
（ 4 ） 大数值孔径光子筛成像的像差特性研究, 主持, 国家级, 2013-01--2017-12
近期论文
查看导师最新文章
（温馨提示：请注意重名现象，建议点开原文通过作者单位确认）
（1） 基于叠栅条纹相位解析的纳米检焦方法, 光学学报, 2015, 第 2 作者
（2） 基于二维Ronchi光栅的纳米光刻对准技术研究, 光学学报, 2015, 第 4 作者
（3） 利用光子筛产生局域空心光束, 光学学报, 2015, 第 3 作者
（4） Adjustment strategy for inclination moiré fringes in lithography by spatial frequency decomposition, IEEE Photonics Technology Letters, 2015, 第 2 作者
（5） An artificial compound eye of photon Sieves, Optics and Laser Technology, 2015, 第 2 作者
（6） Gap-optimized Moiré phase imaging alignment for proximity lithography, Optical Engineering, 2015, 第 2 作者
（7） Moire-Based Absolute Interferometry With Large Measurement Range in Wafer-Mask Alignment, IEEE Photonics Technology Letters, 2015, 第 3 作者
（8） Wafer focusing measurement of optical lithography system based on Hartmann-Shack wavefront testing, Optics and Lasers in Engineering, 2015, 第 2 作者
（9） Moire fringe alignment using composite circular-line gratings for proximity lithography, OPTICS EXPRESS, 2015, 第 3 作者
（10） Spectrum-Integral Talbot Effect for UV Photolithography With Extended DOF, IEEE Photonics Technology Letters, 2015, 第 3 作者
（11） Moiré-Based Interferometry for Magnification Calibration of Bi-telecentric Lens System, IEEE PHOTONICS JOURNAL, 2015, 通讯作者
（12） Interferometric Scheme for High-Sensitivity Coaxial Focusing in Projection Lithography, IEEE Photonics Journal, 2014, 第 2 作者
（13） Four-quadrant gratings moire fringe alignment measurement in proximity lithography, OPTICS EXPRESS, 2013, 第 2 作者
（14） Theoretical model for manipulating light distribution in the time domain by using a spatially homogenous dynamic medium, JOURNAL OF THE OPTICAL SOCIETY OF AMERICA B-OPTICAL PHYSICS, 2013, 第 2 作者
（15） Influence of tilt moire fringe on alignment accuracy in proximity lithography, OPTICS AND LASERS IN ENGINEERING, 2013, 第 2 作者
（16） Focusing property of high numerical aperture photon sieves based on vector diffraction, OPTICS COMMUNICATIONS, 2013, 第 2 作者
学术兼职
2014-12-01-今,中国仪器仪表学会精密机械分会, 理事
2012-01-01-今,国家专家库专家,
2012-01-01-今,国家****评审专家,
2011-01-01-今,全国半导体设备和材料标准化委员会微光刻分会, 副主任委员
2010-01-01-今,中国电子工业专用设备行业协会, 理事
京公网安备 11010802027423号