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个人简介

招生专业 080300-光学工程 085400-电子信息 招生方向 先进光刻 教育背景 2006-09--2012-07 中国科学院研究生院(中科院电子所) 博士研究生 2001-09--2004-07 中国科学院研究生院(中科院电子所) 硕士研究生 1995-09--1999-07 北京师范大学 本科 工作简历 2013-01~现在, 中国科学院微电子研究所, 副研究员 2006-09~2012-07,中国科学院研究生院(中科院电子所), 博士研究生 2004-07~2013-01,中国科学院电子学研究所, 助理研究员 2001-09~2004-07,中国科学院研究生院(中科院电子所), 硕士研究生 1995-09~1999-07,北京师范大学, 本科 专利成果 ( 1 ) 基于OpenVPX架构的测控系统同步控制系统, 2019, 第 1 作者, 专利号: CN201911211916.0 ( 2 ) 用于EUV真空环境中的光电转换电子学装置及光刻机, 2019, 第 1 作者, 专利号: CN201911212670.9 ( 3 ) 对准信号数字化同步解调方法及装置, 2019, 第 2 作者, 专利号: CN201911212041.6 ( 4 ) 用于光刻机调焦调平系统的光电探测器及其使用方法, 2019, 第 2 作者, 专利号: CN201911212045.4 ( 5 ) 对焦传感器的校准方法, 2019, 第 3 作者, 专利号: CN201911212027.6 ( 6 ) 一种光学硅片检测系统中的对焦控制装置及方法, 2019, 第 4 作者, 专利号: CN201910313182.0 ( 7 ) 一种新型光栅尺位移测量装置, 2019, 第 5 作者, 专利号: CN201911133007.X ( 8 ) 晶圆轮廓图的构造方法, 2019, 第 2 作者, 专利号: CN201911211570.4 科研项目 ( 1 ) EUV光刻机离轴对焦技术研究与部件开发, 主持, 国家级, 2018-01--2020-12 ( 2 ) 14nm 浸没光刻套刻对准关键技术研究, 参与, 国家级, 2018-01--2020-12

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(1) Automatic control of LED light source for wafer height leveling in electron beam imaging systems-submit, Proc. SPIE 10819, Optical Metrology and Inspection for Industrial Applications V, 108190O, 2018, 第 2 作者

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