蔡燕民 - 中国科学院上海光学精密机械研究所 - 信息光学与光电技术实验室（信光）

个人简介

招生专业 080300-光学工程招生方向光学工程（光学设计与光学工艺）教育背景 1999-04--2002-04中科院上海光学精密机械研究所博士 1996-09--1999-03长春光学精密机械学院硕士 1990-09--1994-06长春光学精密机械学院学士工作简历 2011-11~现在,中科院上海光学精密机械研究所,副研究员 2010-06~2011-10,芯硕半导体有限公司研发中心,项目兼部门经理 2004-04~2010-05,上海微电子装备有限公司,高级工程师 2002-05~2004-03,中科院上海微系统研究所,助理研究员 1994-07~1996-08,东北机器制造总厂,助理工程师奖励信息（1）上海市浦东新区政府浦东新区专利工作优秀个人奖,,省级,2010 （2）上海微电子装备公司（国家光刻设备研发中心）专利成就奖,,研究所（学校）,2010

研究领域

专利成果（1）测量光学系统参数的测量装置及其测量方法,发明,2010,第2作者,专利号:CN200810033379.0 （2）傅里叶变换物镜,发明,2013,第1作者,专利号:CN201310259300.7 （3）光刻机照明系统偏振测量用光学系统,发明,2013,第1作者,专利号:CN201310301241.5 （4）共轭距可变的光刻投影物镜、光刻方法,发明,2014,第1作者,专利号:CN201310422537.2 （5）产生一束线偏振光的沃拉斯顿棱镜,发明,2014,第1作者,专利号:CN201310485690.X （6）紧凑型光刻投影物镜,发明,2014,第1作者,专利号:CN201310565988.1 （7）光刻机光瞳整形单元结构及其衍射光学元件设计方法,发明,2014,第2作者,专利号:CN201310576235.0 （8）用于193nm波长的由两种材料构成的沃拉斯顿棱镜,发明,2014,第1作者,专利号:CN201310675817.4 （9）光刻机偏振照明系统光瞳偏振态测量装置及其测试方法,发明,2014,第1作者,专利号:CN201410040999.2 （10）光扩散器散射特性测量装置及其方法,发明,2012,第1作者,专利号:CN200910199203.7 （11）多重成像光刻装置以及方法,发明,2011,第1作者,专利号:CN200910047580.9 （12）一种全折射式投影光学系统,发明,2010,第1作者,专利号:CN200810037684.7 （13）一种烘烤光刻胶的方法及使用该方法的装置,发明,2013,第3作者,专利号:CN200910201295.8 （14）一种全折射浸液式投影光学系统、装置及其应用,发明,2009,第1作者,专利号:CN200710043869.4 （15）一种投影光学系统及投影曝光装置,发明,2009,第1作者,专利号:CN200710170750.3 （16）一种全折射浸液式投影光学系统、装置及其应用,发明,2009,第1作者,专利号:CN200710043872.6 （17）批量硅片曝光的方法,发明,2009,第1作者,专利号:CN200710036720.3 （18）一种全折射投影光学系统,发明,2009,第1作者,专利号:CN200710040304.0 （19）全折射投影光学系统,发明,2009,第1作者,专利号:CN200710173558.X （20）一种全折射非球面投影光学系统,发明,2009,第1作者,专利号:CN200710173569.8 （21）一种折反射投影光学系统,发明,2010,第1作者,专利号:CN200710173571.5 （22）全折射式投影光学系统,发明,2010,第1作者,专利号:CN200810200908.1 （23）一种对称式双远心投影光学系统,发明,2009,第1作者,专利号:CN200710038508.0 （24）一种投影光学系统,发明,2009,第2作者,专利号:CN200610028605.7 （25）筒长无限的显微物镜光学系统,发明,2014,第1作者,专利号:CN201410067677.7 科研项目（1）“高端光刻机偏振照明关键技术联合研究”之课题4“偏振照明原理实验装置及其性能评估”,主持,国家级,2011-01--2013-12 （2）“2009ZX02205-001”之“照明光瞳偏振参数检测装置研发”,主持,国家级,2009-07--2015-12 （3）投影物镜偏振特性检测技术研究,主持,市地级,2012-03--2013-09 （4）EUVL投影物镜波像差检测装置研发,参与,国家级,2012-01--2014-02

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（1）共轭距可变的光刻投影物镜光学设计,OpticalDesignofLithographyProjectiveLenswithVariableTotalTrack,中国激光,2014,第1作者（2）用于ArF光刻机偏振照明系统的沃拉斯顿棱镜的设计,DesignofWollastonPrismUsedforPolarizationIlluminationSysteminArFLithographyTool,中国激光,2014,第1作者