个人简介
招生专业
080903-微电子学与固体电子学
085400-电子信息
招生方向
纳米电子材料与器件
教育背景
1999-03--2002-07 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 博士
1996-09--1999-02 浙江大学 硕士学位
1992-09--1996-07 浙江大学 学士学位
工作简历
2006-01~现在, 中国科学院上海微系统与信息技术研究所, 研究员
2004-07~2005-12,中国科学院上海微系统与信息技术研究所, 副研究员
2004-03~2004-07,香港理工大学, 访问学者
2002-08~2004-06,中国科学院上海微系统与信息技术研究所, 助理研究员
2001-07~2002-07,香港城市大学, 研究助理
1999-03~2002-07,中国科学院上海微系统与信息技术研究所, 博士
1996-09~1999-02,浙江大学, 硕士学位
1992-09~1996-07,浙江大学, 学士学位
奖励信息
（1） 相变存储芯片制造核心技术及嵌入式应用, 二等奖, 省级, 2019
（2） 八面体基元理论指导发现新型相变存储材料及其在128Mb储存芯片中的应用, 一等奖, 部委级, 2019
（3） 中国科协求是杰出青年成果转化奖, 部委级, 2017
（4） 上海市技术发明一等奖, 一等奖, 省级, 2016
（5） 上海市优秀技术带头人, , 省级, 2014
（6） 第四届上海市五一巾帼创新奖, , 省级, 2011
（7） 第六届“上海市巾帼创新提, , 其他, 2010
（8） 上海市科教系统三八红旗手, , 其他, 2009
（9） 第十届上海市杰出青年岗位, , 其他, 2009
（10） 上海市新长征突击手, , 其他, 2009
（11） 第二届“上海市科教党委系, , 其他, 2008
（12） 上海市青年科技启明星跟踪计划”, , 其他, 2007
（13） 上海市青年科技启明星计划, , 其他, 2004
专利成果
（ 1 ） 三维立体结构电阻转换存储芯片的制备方法及芯片, 2010, 第 3 作者, 专利号: 201010572456.7
（ 2 ） 一种化学机械抛光液回收和重复利用的方法, 2010, 第 2 作者, 专利号: 201010022997
（ 3 ） 氧化硅－氧化铈核壳复合磨料颗粒及其制备和应用, 2010, 第 2 作者, 专利号: 201010106871
（ 4 ） 三维电阻转换存储芯片制造方法, 2010, 第 3 作者, 专利号: 201010579606.7
（ 5 ） 氧化硅-氧化铈核壳复合磨料颗粒及其制备和应用, 2010, 第 2 作者, 专利号: 201010106871.3
（ 6 ） 一种提高硅衬底化学机械抛光速率的抛光组合物及其应用, 2010, 第 2 作者, 专利号: 201010189172
（ 7 ） 一种提高硅衬底化学机械抛光速率的抛光组合物及其应用, 2010, 第 3 作者, 专利号: 01010189172.X
（ 8 ） 一种高速高密度三维电阻转换存储芯片结构与制备工艺, 2010, 第 3 作者, 专利号: 201010172878.5
（ 9 ） 可控氧化硅去除速率的化学机械抛光液, 2010, 第 4 作者, 专利号: 201010189145.2
（ 10 ） 硫系化合物相变材料抛光后清洗液, 2010, 第 3 作者, 专利号: 201010281508.5
（ 11 ） 一种相变材料抛光后清洗液, 2010, 第 4 作者, 专利号: 201010189161.1
（ 12 ） 相变存储器用化学机械抛光液, 2011, 第 2 作者, 专利号: 201110072199.5
（ 13 ） 一种抑制相变材料电化学腐蚀的抛光液, 2012, 第 2 作者, 专利号: 201110411364.5
（ 14 ） 一种用于硅单晶片抛光的抛光液及其制备与应用, 2011, 第 2 作者, 专利号: 201110228844.8
（ 15 ） 一种改善相变材料抛光后表面质量的抛光液 , 2011, 第 2 作者, 专利号: 201110411337.8
（ 16 ） 一种用于蓝宝石衬底的化学机械抛光液及其应用, 2011, 第 2 作者, 专利号: 201110433696.3
（ 17 ） 一种菱形片状氧化铈的制备方法, 2012, 第 1 作者, 专利号: 200910200963.5
（ 18 ） 一种化学机械抛光液回收和重复利用的方法, 2012, 第 2 作者, 专利号: 201010022997.2
（ 19 ） 一种氧化硅介电材料用化学机械抛光液” 申请号, 2012, 第 2 作者, 专利号: 201210324122.7
（ 20 ） 一种中空纤维高温膜组件的封装结构及中空纤维模组件, 2012, 第 3 作者, 专利号: 201220202064.6
（ 21 ） Al衬底用化学机械抛光液 , 2012, 第 2 作者, 专利号: 201210219203.0
（ 22 ） 一种氧化铝抛光液的制备方法, 2013, 第 2 作者, 专利号: 201310567464.6
（ 23 ） 一种高性能水性无机涂料及其制备方法, 2013, 第 4 作者, 专利号: 201310442795.7
（ 24 ） 一种相变材料化学机械抛光方法, 2013, 第 5 作者, 专利号: 201310462116.2
（ 25 ） 一种相变存储器电极结构的制备方法, 2013, 第 5 作者, 专利号: 201310461919.6
（ 26 ） 一种水溶性聚苯乙烯-二氧化硅核壳型复合颗粒的制备方法, 2013, 第 3 作者, 专利号: 201310442823.5
（ 27 ） 一种二氧化硅介电材料用化学机械抛光液及其制备方法, 2013, 第 4 作者, 专利号: 201310419636.5
（ 28 ） 一种自停止的GST化学机械抛光液及其制备方法和应用, 2013, 第 3 作者, 专利号: 201310447272.1
（ 29 ） 一种低功耗相变存储器结构的制备方法, 2013, 第 5 作者, 专利号: 201310415207.0
（ 30 ） 氧化硅-氧化铈核壳复合磨料颗粒及其制备和应用 , 2013, 第 2 作者, 专利号: 201010106871.3
（ 31 ） 一种提高硅衬底化学机械抛光速率的抛光组合物及其应用, 2013, 第 3 作者, 专利号: 201010189172.X
（ 32 ） 一种蒸汽直通制取硅溶胶的加热方法, 2015, 第 3 作者, 专利号: 201210564282.9
（ 33 ） 一种相变材料化学机械抛光方法, 2015, 第 5 作者, 专利号: 201310462116.2
（ 35 ） 一种自停止的GST化学机械抛光液及其制备方法和应用, 2015, 第 3 作者, 专利号: 201310447272.1
（ 36 ） 一种水溶性聚苯乙烯-二氧化硅核壳型复合颗粒的制备方法, 2015, 第 3 作者, 专利号: 201310442823.5
（ 37 ） 一种相变存储器电极结构的制备方法, 2015, 第 5 作者, 专利号: 201310461919.6
（ 38 ） 一种氧化铝抛光液的制备方法, 2015, 第 2 作者, 专利号: 201310567464.6
（ 39 ） 一种非球形二氧化硅溶胶及其制备方法, 2016, 第 3 作者, 专利号: 201210587490.0
（ 41 ） 一种稳定的改性硅溶胶及其制备方法, 2016, 第 4 作者, 专利号: 201210587486.4
（ 43 ） 一种GST中性化学机械抛光液, 2016, 第 3 作者, 专利号: 201210586914.1
（ 45 ） 一种相变存储器结构及其制备方法, 2016, 第 3 作者, 专利号: 201310673872.x
（ 47 ） 一种包含双氧化剂的GST化学机械抛光液及其制备方法和用途, 2016, 第 2 作者, 专利号: 201410610365.6
（ 53 ） 一种低功耗相变存储器结构的制备方法, 2016, 第 5 作者, 专利号: 201310415207.0
（ 57 ） Polydisperse large-particle-size silica sol and method of preparing the same, 2016, 第 2 作者, 专利号: 15/219,533
（ 58 ） Film-forming silica-sol method of preparing the same and application of the same, 2016, 第 2 作者, 专利号: 15/219,522
（ 59 ） Polydisperse large-particle-size silica sol and method of preparing the same, 2016, 第 2 作者, 专利号: 15/219,533
（ 60 ） 一种改性二氧化硅胶体的制备方法, 2017, 第 2 作者, 专利号: 201410852430.6
（ 61 ） 一种多孔二氧化硅的制备方法及其应用, 2017, 第 2 作者, 专利号: 201410843300.6
（ 62 ） 一种利用废抛光液回收制备水玻璃的方法, 2017, 第 2 作者, 专利号: 201711445044.5
（ 63 ） 一种用于氧化锆陶瓷的化学机械抛光液及其制备方法和用途, 2017, 第 1 作者, 专利号: 201711473665.4
（ 64 ） 一种疏水二氧化硅溶胶的制备方法, 2017, 第 1 作者, 专利号: 201711473611.8
（ 65 ） 一种硅溶胶基磁流变金属抛光液及其制备方法和用途, 2017, 第 3 作者, 专利号: 201711475583.3
（ 66 ） 一种钽酸锂还原片抛光液及其制备方法和用途, 2017, 第 3 作者, 专利号: 201711479667.4
（ 67 ） method for preparaing an aluminum oxide polishing solution, 2018, 第 2 作者, 专利号: US1066128B2
（ 68 ） Film-forming silica sol, method of preparing the same, and application of the same, 2020, 第 2 作者, 专利号: US10604662
（ 69 ） 多分散大粒径硅溶胶及其制备方法, 2019, 第 2 作者, 专利号: ZL201610382474.6
科研项目
（ 1 ） 电子级纳米磨料产业化研究及其在IC抛光液中的应用, 主持, 国家级, 2009-01--2011-12
（ 2 ） 45-28nm集成电路用纳米磨料和相变材料抛光液的研究与产业化, 主持, 国家级, 2011-01--2013-12
（ 3 ） 面向LED蓝宝石衬底的抛光液与抛光工艺示范线, 主持, 省级, 2011-12--2014-09
（ 4 ） 上海市优秀技术带头人, 主持, 省级, 2014-07--2017-06
（ 5 ） 纳米电子材料产学研联合实验室能力提升, 主持, 省级, 2016-01--2017-12
（ 6 ） 电子级二氧化硅纳米材料制备新工艺开发及产品应用研究, 主持, 院级, 2015-06--2019-05
（ 7 ） 纳米二氧化硅材料快速生长装置的研制, 主持, 部委级, 2020-01--2021-12
（ 8 ） 碳化硅晶圆化学机械抛光液的摩擦磨损过程及机理研究, 主持, 市地级, 2020-05--2022-04
参与会议
（1）硬脆性材料的化学机械抛光研究 2018海峽兩岸暨亞太先進基板研磨加工技術研讨会 刘卫丽 2018-05-30
（2）氧化锆陶瓷的化学机械抛光 2017上海国际先进陶瓷技术研讨会 刘卫丽 2017-06-07
（3）The CMP of sapphire for mobile electronics Weili Liu 2016-05-24
（4）Chemical Mechanical Polishing Slurry for Amorphous Ge2Sb2Te5 刘卫丽，王良咏，宋志棠 2013-10-30
（5）Overview of CMP Research in China and SIMIT Liu Weili 2013-05-30
（6）纳米磨料的研究及其在化学机械抛光上的应用 2012 海峡两岸先进基板研磨加工论坛 刘卫丽 2012-09-13
（7）Nano Particles for Chemical Mechanical Planarization Weili Liu, Lei Zhang , Zhitang Song 2011-11-09
（8）Nano Particles for Chemical Mechanical Planarization Weili Liu, Zhitang Song 2011-10-31
（9）High Purity Nano Abrasive for Chemical Planarization Application Weili Liu 2010-01-04
近期论文
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（1） Preparation of Non-spherical Colloidal Silica Nanoparticle and Its Application on Chemical Mechanical Polishing of Sapphire, JOURNAL OF WUHAN UNIVERSITY OF TECHNOLOGY-MATERIALS SCIENCE EDITION, 2019, 通讯作者
（2） Structure-induced superhydrophilicity of silica membranes through hybridization and self-assembly of different dispersed nanoparticles, JOURNAL OF MOLECULAR STRUCTURE, 2019, 通讯作者
（3） Review on Modeling and Application of Chemical Mechanical Polishing, Nanotechnology, 2019, 通讯作者
（4） Near-threshold SIDO DC-DC converter with a high-precision ZCD for phase change memory chip, IEICE Electronics Express, 2019, 第 5 作者
（5） Surface energy driven cubic-to-hexagonal grain growth of Ge2Sb2Te5 thin film, scientific reports, 2017, 第 9 作者
（6） preparation of Co-doped silica sol and its application in sapphire (1120) polishing, suface technology, 2017, 通讯作者
（7） 新型硅基抛光磨料的研究进展, 应用化学, 2017, 通讯作者
（8） surface modification alumina particles and their chemical mechanical polishing (CMP) behavior on C-plane (0001) sapphire substrate, 无机材料学报, 2017, 通讯作者
（9） preparation of nano-spherical colloidal silica nanoparticle and its application on the chemical mechanical polishing of sapphire, 武汉理工大学学报-材料科学版, 2017, 通讯作者
（10） 一种非球形纳米二氧化硅颗粒制备方法研究, 材料导报, 2017, 通讯作者
（11） Material Removal Mechanism of Ti0.4Sb2Te3 Film during Chemical Mechanical Polishing in Acidic Permanganate-Based Slurry, ECS Journal of Solid State Science and Technology, 2016, 通讯作者
（12） Fractal nature of non-spherical silica particles via facile synthesis for the abrasive particles in chemical mechanical polishing, Colloids and Surfaces A: Physico chem. Eng. Aspects 500 (2016) 146–153, 2016, 通讯作者
（13） A nano-scale mirror-like surface of Ti–6Al–4V attained by chemical mechanical polishing, Chin. Phys. B Vol. 25, No. 5 (2016) 058301, 2016, 通讯作者
（14） Direct observation of metastable face-centered cubic Sb2Te3 crystal, Nano Research 2016, 9(11): 3453–3462, 2016, 第 6 作者
（15） Material Removal Mechanism of Ti0.4Sb2Te3 Film during Chemical Mechanical Polishing in Acidic Permanganate-Based Slurry, ECS Journal of Solid State Science and Technology, 5 (2) P47-P50 (2016), 2016, 通讯作者
（16） Poly disperse spherical colloidal silica particles: Preparation and application, Chin.Phys.B Vol.25,No.11 (2016) 118202, 2016, 通讯作者
（17） 核壳型多孔氧化硅制备过程中表面活性剂的浓度调控及作用机理, 硅酸盐通报, 2015, 通讯作者
（18） The Effect of pH on Sapphire Chemical Mechanical Polishing, ECS Journal of Solid State Science and Technology, 2015, 通讯作者
（19） Effect of Abrasive Concentration on Chemical Mechanical Polishing of Sapphire, Chinese Physical Letters, 2015, 第 4 作者
（20） Synthesis of colloid silica coated with ceria nano-particles with the assistance of PVP, Chinese Chemical Letters, 2015, 通讯作者
（21） Role of the Lysine as a Complexing Agent in Ge2Sb2Te5 Chemical Mechanical Polishing Slurries, Electrochimica Acta, 2014, 第 3 作者
（22） Non-spherical colloidal silica particles—Preparation, application and model, Colloids and Surfaces A: Physicochem. Eng. Aspects, 2014, 第 3 作者
（23） Effect of Cations on the Chemical Mechanical Polishing of SiO2 Film, CHINESE PHYSICS LETTERS, 2013, 通讯作者
（24） Endpoint detection of Ge2Sb2Te5 during chemical mechanical planarization, APLLIED SURFACE SCIENCE , 2013, 第 3 作者
（25） Mechanism of Ge2Sb2Te5 chemical mechanical polishing, Applied Surface Science , 2012, 第 4 作者
（26） Evaluation of hydrogen peroxide on chemical mechanical polishing of amorphous GST, ECS Transactions , 2012, 第 3 作者
（27） Chemical mechanical polishing of stainless steel foil as flexible substrate, Applied Surface Science , 2012, 第 3 作者
（28） Chemical mechanical polishing of using abrasive-free solutions of iron trichloride, Chin. Phys. Lett, 2012, 通讯作者
（29） Single-crystalline CeOHCO3 with Rhombic Morphology: Synthesis and Thermal Conversion to CeO2., Chinese Journal of Inorganic Chemistry, 2012, 通讯作者
（30） Effect of Mechanical Process Parameters on Friction Behavior and Material Removal during Sapphire Chemical Mechanical Polishing, Microelectronic Engineering , 2012, 通讯作者
（31） 一种新型复合磨料对铜的化学机械抛光研究, 信息功能材料学报, 2012, 通讯作者
（32） Influence of pH and Abrasive Concentration on Polishing Rate of Amorphous Ge2Sb2Te5 Film in Chemical Mechanical Polishing, Journal of Vacuum Science and Technology B , 2011, 通讯作者
（33） Effect of hydrogen peroxide concentration on surface micro- roughness of silicon wafer after final polishing, Microelectronic Engineering, 2011, 通讯作者
（34） Preparation of monodisperse polystyrene/silica core-shell nano-composite abrasive with controllable size and its chemical mechanical polishing performance on copper, , Applied Surface Science , 2011, 通讯作者
（35） . Instability of nitrogen doped Sb2Te3 for phase change memory application, Journal of Applied Physics, 2011, 通讯作者
（36） Local atomic structure in molten Si3Sb2Te3 phase change material, Solid State Communications, 2011, 通讯作者
（37） Experimental and theoretical study of silicon-doped Sb2Te3 thin ？lms: Structure and phase stability, Applied Surface Science, 2011, 通讯作者
（38） Phase Change Line Memory Cell Based on Ge2Sb2Te5 Fabricated Using Focused Ion Beam, Japanese Journal of Applied Physics, 2011, 第 4 作者
（39） Influence of pH and Abrasive Concentration on Polishing Rate of Amorphous Ge2Sb2Te5 Film in Chemical Mechanical Polishing, Journal of Vacuum Science and Technology B, 2010, 通讯作者
（40） Single-crystalline CeOHCO3 with Rhombic Morphology: Synthesis and Thermal Conversion to CeO2, Chinese Journal of Inorganic Chemistry , 2010, 通讯作者
（41） Effect of Ammonium Molybdate Concentration on Chemical Mechanical Polishing of Glass Substrate, Chinese Journal of Semiconductors , 2010, 通讯作者
（42） Effect of pH and Abrasive Concentration on Chemical Mechanical Polishing of Ge2Sb2Te5, ECS Transactions , 2010, 通讯作者
（43） Strain relaxation in nano-patterned strained-Si/SiGe heterostructure on insulator, Applied Surface Science , 2010, 通讯作者
（44） Modified post annealing of the Ge condensation process for better-strained Si material and devices, Journal of Vacuum and Science Technology B , 2010, 通讯作者
（45） Germanium surface hydrophilicity and low-temperature Ge layer transfer by Ge–SiO2 bonding, Journal of Vacuum and Science Technology B, 2010, 通讯作者
（46） Strain Stability and Carrier Mobility Enhancement in Strained-Si on Relaxed SiGe-on-Insulator, Journal of The Electrochemical Society, 2010, 通讯作者
（47） Two-Step Chemical Mechanical Polishing of Sapphire Substrate, Journal of the Electrochemical Society , 2010, 通讯作者
（48） Surface modification of ceria nanoparticles and their chemical mechanical polishing behavior on glass substrate, Applied Surface Science , 2010, 通讯作者
（49） Effect of abrasive particle concentration on preliminary chemical mechanical polishing of glass substrate, Microelectronic Engineering , 2010, 通讯作者
（50） Synthesis, characterization of ceria-coated silica particles and their chemical mechanical polishing performance on glass substrate, Applied Surface Science , 2010, 通讯作者
（51） Particle size and surfactant effects on chemical mechanical polishing of glass using silica-based slurry, Applied Optics , 2010, 通讯作者
京公网安备 11010802027423号